等离子体微弧氧化(MAO)设备与技术(图)

作者:xingyang                         时间：2010-12-02

轴承及轴承相关技术文章（轴承型号查询网提供） 关键字：轴承, [img]http://www.skf365.com/200807/080702-14.jpg[/img] 离子束增强沉积（IBED）是一种将离子注入和薄膜沉积相结合的先进的材料表面改性新技术。该设备配置了高能气体离子束源、高能MEVVA金属离子束源、低能离子束溅射沉积薄膜系统，具有单元离子注入、双元离子注入、薄膜沉积、静态和动态离子束增强沉积等多种功能，可实现离子注入改性、金属表面合金化和制备各种功能膜等多种工艺。该技术处理温度较低（[img]http://www.skf365.com/200807/080702-15.jpg[/img]经离子束增强沉积处理的滚齿刀 主要技术指标： 气体离子束源：束流大5mA，电压30-80KV，束斑φ150mm，不均匀性小于±25%； 金属离子束源：束流大于5mA，电压20-50KV，束斑φ150mm，不均匀性小于±30%； 溅射离子源：束流大于100mA，电压1-4KV，束斑φ50mm； 真空室直径800mm，静真空度8×10-4Pa，三维（自转，水平往复、倾斜）运动，内水冷工件靶。

上一篇：金属蒸汽真空弧离子注入设备与技术(图)

下一篇：新型环保银镜纳米喷镀技术