赫尔槽调整光亮酸铜液有机杂质判定及处理

作者:xingyang                         时间：2010-12-02

轴承及轴承相关技术文章（轴承型号查询网提供） 关键字：轴承, 　　有机杂质判定及处理　　光亮剂分解产物积累过多后，应予处理。　　2.5.1若试片表面有一层发灰的疏松膜层，用手可擦去，擦除后镀层仍光亮，则有机杂质过多。　　2.5.2处理有机杂质可按下述办法进行：　　(1)按8～10ml/L量加人双氧水(不可用高锰酸钾，因引入Mn2＋有害)，认真搅拌半小时以上；　　(2)加温到60℃左右，保温4h以上，保温期间每隔20min搅拌3～5min，以充分氧化有机杂质及去除残存双氧水；　　(3)加人5～8g/L化学纯活性碳(不可用工业级，否则会引入过多Cl-)，搅拌20min以上。静置后认真过滤；　　(4)冷却至室温后用赫尔槽试验，确认镀层已成暗铜后，按新配量加入开缸剂，补加少量硫酸后再试。若因加入活性碳后Cl-过量，应进行除氯处理。

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